：1、制取电子工业生产如显像管玻壳、显像管、单晶硅半导体、绫路板、液晶显示器、计算器硬盘和集成电路芯片等工艺所需的去离子水；

2、制取电力行业发电锅炉和厂矿企业中、低压锅炉给水所需的水；

3、制取医药行业所需的医用大输液、药剂、注射剂、生化制品用去离子纯水、医用无菌水和人工肾透析用去离子纯水；

4、制取化工行业制造过程所需的工艺用去离子水；

5、制造纺织印染工艺所需的除硬度除盐用去离子水；

6、制取光学玻璃镀膜前清洗用去离子水、超纯水；

7、制取电镀工艺用去离子水、电池生产工艺用纯水以及汽车、家电、建材产品表面涂装和清洗用去离子水；

8、设备冷却循环用去离子水。

去离子水水质标准：

指标/级别

EW-I EW-II EW-III EW-IV

电阻率M Ω·cm(25℃) 18以上(95%时间)不低于17 15(95%时间)不低于13 12 0.5

全硅，最大值， μg/L 2 10 50 1000

1 μm微粒数， 最大值， 个/mL 0.1 5 10 500

细菌个数，最大值，个/mL 0.01 0.1 10 100

铜，最大值， μg/L 0.2 1 2 500

锌，最大值， μg/L 0.2 1 5 500

镍，最大值， μg/L 0.1 1 2 500

钠，最大值， μg/L 0.5 2 5 1000

钾，最大值， μg/L 0.5 2 5 500

氯，最大值， μg/L 1 1 10 1000

硝酸根，最大值， μg/L 1 1 5 500

磷酸根，最大值， μg/L 1 1 5 500